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半导体
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发布时间:2017-1-12   点击次数:1 
罗克韦尔自动化半导体行业FMCS解决方案
FMCS (Facilities Management Control System),具有各层次的监视与控制功能,是工业级的控制系统,监视并控制着服务于FAB生产的各子系统。子系统包含但不局限以下系统:洁净室、空调、机电设施、超纯水、污水处理、化学品供应、气体供应、真空系统、压力系统、电力与生命安全系统等。作为专业的自动化供应商罗克韦尔可为用户带来产品与工程上的最优化解决方案。
洁净室系统
洁净室系统维持无尘室的洁净度、温度、湿度、压力、新风量等参数,为生产提供安全可靠的环境。监控对象有空调新风机组、排风机组、洗涤塔、干盘管、FFU、FAB内的压力、温度、湿度等。
机电设施系统
机电设施系统包含冷冻水系统、冷却水系统、热水系统等三大中央动力系统。
在FMCS系统中对热水系统监控主要涉及对锅炉的通信、水温、水泵、热水的压力。
纯水系统
半导体行业由于产品的特性,生产过程中必须使用电子级的纯水。典型制备工艺可分为以下几个部分:预处理、RO反渗透、电去离子或混床、抛光混床、供水、回收水。自控方案的主要控制对象有水箱的液位、水泵、流量、压力、温度、反洗装置、加药装置、水质测量装置。
废水处理
半导体厂需处理的废水包含制程工艺废水(如CMP、酸碱液、HF、有机物等)、洗涤塔废水、纯水系统生成废水、一般排水。
化学品供应系统
厂务化学系统一般可分为三大类, 即酸碱类、有机溶剂类、研磨液。供应路径如下图:

由于供应化学品种类繁多,为保证24小时连续稳定供应与安全,每个供应柜CDM采用单独PLC控制。从容器中送出的化学品通过VMB实现多用户接入, 对VMB的控制通过I/O盘。然后,整体通过监控系统对运行状态进行监控,实现集中管理,确保运行的安全与供应品质。
气体供应系统
在半导体晶圆制造过程中,以及其它电子行业生产过程中,使用了众多种类的气体。一般把气体分为大宗气体(BulkGas) 和特殊气体 (Special Gas) 两种。大宗气体一般是指集中供应且用量较大的气体,涵盖制程用气如氮气、氧气、氢气、氩气、CDA等。 特殊气体主要是在扩散制程、薄膜制程、离子注入制程、刻蚀制程等工艺处使用的气体,以及其他为各种制程设备所使用的惰性气体等。特气供应系统的基本流程为:

真空与CDA系统
一、真空系统
真空系统包括工艺真空(Process Vacuum )、清扫真空(House Vacuum);工艺真空PV:供工艺设备与作业员用来搬送晶圆片的真空;其通常的构成真空罐、真空泵、油水分离器、冷却系统、输送管路。清扫真空HV:为FAB的清扫提供真空源,真空使用点位于FAB不同位置。其通常构成真空泵、除尘器、自动补风装置、使用节点等.
二、CDA系统:
通过压缩机压缩外部空气,并经过过滤器、干燥机等一系列处理用来供FAB使用。FMCS系统主要监控空压机运行、干燥机运行、系统冷却、压力监控(缓冲罐与管路、过滤器)、空气露点等。
生命安全系统
生命安全系统包括数个专业的子系统,如火灾与气体监测,紧急通信,安防及声光报警撤离系统。火灾系统包括火灾保护、火灾探测、火灾事故照明和疏散指示等。特气侦测系统(Gas Detector System)简称GDS,采用特气侦测设备测量有毒气体的含量,有些侦测设备已经集成了通信接口,通过这些接口可直接发送状态与报警到FMCS系统,而另外一些则需要专用的接口模块或硬接线获得相关信息。
电力监控系统
电力监控系统监视工厂的用电状态与用电质量。通过对电力的监控,可帮助用户实现用电需求管理、限电管理、电压无功功率管理、及成本分配等,从而提高供电质量,使设备的运行更有效、安全。
用户服务与技术支持
很多企业发现,如果在设备替换阶段采用响应型维护策略,企业将遭遇更频繁、无计划的停机事故,并且由于缺乏技术资源,使得延长设备寿命的工作变得非常困难,企业将为此支付高额的维护费用。综上所述,维护策略应该在项目和设备设计阶段就由维护部门开始考虑制定,有效地将预测型、预防型和响应型维护方法相结合,使其贯穿于设备的整个生命周期,将其作为企业增加利润的一种途径,通过运用这些维护措施创造最佳的生产环境,延长正常运行时间,实现更多的利润。
罗克韦尔自动化战略性维护策略,能全面满足您优化自动化设备性能的需求,以实现:

罗克韦尔自动化的客户支持与维护服务

在系统生命周期的不同阶段采用恰当的预测型、预防型和响应型维护方法的组合,能帮助您更好的实现生产经营。
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